2024年9月28日，由中国光学工程学会主办的首届光显示大会在北京隆重举行。此次大会汇集了来自国内外的顶尖学者和业界专家，旨在探讨显示技术的前沿发展趋势。成都辰显光电有限公司技术总监董小彪博士受邀出席，并在Micro-LED显示专题会议上发表了主题为《Micro-LED技术的机遇与挑战》的演讲，详细阐述了Micro-LED技术的最新发展与前景。

　　董小彪博士在演讲中指出，Micro-LED显示技术以其自发光、无背光、高亮度和长寿命等特性，被誉为下一代显示技术的核心平台。Micro-LED具有高亮度、高可靠性、低开口率等优势，可以有效解决当前显示技术的局限性。尤其在大尺寸拼接显示和高分辨率需求的领域，Micro-LED技术显示出极强的竞争力，适用于商用显示、高端 TV、消费类电子产品和虚拟现实设备。

　　然而，Micro-LED显示技术的普及仍然面临多项技术挑战，特别是在巨量转移、TFT背板技术以及真正实现无缝拼接等方面。董博士强调，辰显光电在提高生产良率、显示均匀性、亮度和对比度等关键技术上取得了显著进展。通过自主研发的巨量转移技术，辰显已经成功提升了制造效率，并在无缝拼接技术上实现了突破。公司开发的混合驱动架构技术，确保了TFT基Micro-LED显示屏的高质量输出。

　　董小彪博士在演讲中还介绍了辰显光电在Micro-LED领域的最新进展。公司率先建立了首条TFT基Micro-LED量产生产线，推动了Micro-LED从实验室技术向商业化落地的飞跃。目前首批设备已顺利搬入，正式进入量产出货的倒计时阶段。该产线计划在年底前实现小批量量产。

　　董博士进一步展望了Micro-LED在未来显示技术中的核心作用。他表示，随着Micro-LED技术的不断成熟，未来它将在多个行业中发挥重要作用，彻底改变人类的视觉体验，从而为未来显示技术发展提供更多可能性。